晶片的清洗是半導體制程中最重要的清洗工藝。目前來說，清洗工藝大體可分為濕法清洗和干法清洗兩種。本文主要介紹濕法清洗又可以分為RCA清洗法，稀釋化學法清洗，IMEC清洗，單晶圓清洗等。1.RCA清洗工業中標準的濕法清洗工藝稱為RCA清洗工藝，是由美國無線電公司(RCA)的W.Kern和D.Puotinen于1970年提出......

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原料藥是藥品中發揮藥理作用的活性成分，由化學合成、植物提取或者生物技術所制備的各種用來作為藥用的粉末、結晶、浸膏等的物質。根據制成藥劑的需求，可以將原料藥的生產分為無菌原料藥生產和非無菌原料藥生產兩種。無菌原料藥是指不含任何活性微生物(如霉菌、細菌、病毒等)的藥品制劑上游產品，其生產不僅注重產品雜質、理化特性等化學質量......

帶電荷除菌濾芯技術在流體凈化領域的重要性日益凸顯，其電荷改性材料和設計結構使其在除菌和去除內毒素方面表現出色，極大提升了流體凈化效率。1.電荷改性材料的高效吸附帶電荷除菌濾芯，如DNV系列濾芯，采用正電PES和正電Nylon6膜制取，這種膜配置方式使其能夠吸附去除比過濾精度更小的顆粒、細菌及內毒素等。這種電荷改性材料能......